在光电应用中，使用氯化铟酞菁(InClPc)薄膜。

然而，这些电影并没有得到广泛的研究。

采用热真空蒸发技术在清洁的掺氟氧化锡(FTO)衬底上沉积了InClPc薄膜。

采用x射线衍射和原子力显微镜对样品的结构和形貌进行了检测。

结果表明，随着薄膜厚度从48 nm增加到137 nm，颗粒尺寸从79 nm增加到126 nm，薄膜由分布在薄膜表面的球形颗粒组成。

从250 ~ 2500 nm波长范围内的反射光谱和透射光谱中提取了InClPc薄膜的线性光学常数。

InClPc薄膜有两个能隙，分别为Eg1 = 1.37 eV和Eg2 = 2.84 eV，其能隙随薄膜厚度的变化而略有变化。

根据米勒定律，计算了非线性光学参数。

采用两个独立的激光源(红色He-Ne激光器和绿色二极管激光器)进行光限幅测试。

以及红色He-Ne激光功率强度性能高。

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