光电材料|柔性PET掩膜增强激光退火下f掺杂SnO2薄膜的形貌、结构和光电性能

激光退火对提高透明导电氧化物(TCO)基薄膜的性能具有重要意义。

在本研究中,我们进一步开发了简单的柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)掩膜增强激光退火(FPLA)工艺,通过在薄膜表面覆盖透明PET片,实现氟掺杂氧化锡(FTO)薄膜的性能改善。

通过分析薄膜的表面形貌、表面粗糙度、晶体结构和光电性能,

确定了包含扫描速度和扫描线间距的FPLA扫描控制策略。

结果表明,在最佳扫描速度为10 mm/s、扫描线间距为20 μm时,逐行往返扫描可获得更有效的FPLA效果。

取得时的FTO电影展出low-fluctuated表面明显扩大和致密颗粒,最低的均方根粗糙度,

最大的粒度,从而最大品质因数为3.05×10−2Ω−1,这是直接的约1.8倍laser-hainealed FTO电影使用相同的参数。

通过SEM、EDX和XPS表征进一步验证了PET片在FPLA膜材料再沉积和抑制氧空位减少方面的有效性。

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